新規REBCO-CCの導電性中間層に用いるNb–TiO2薄膜の作製と評価

Fabrication and evaluation of Nb–TiO2 thin films for conductive buffer layer of novel REBCO-CC


舩木 修平, 長瀬 侑弥, 山田 容士 (島根大); 土井 俊哉 (京大)


Abstract:REBCO-CCの中間層に導電性を有する材料を用いることで,迂回電流を基材に流すことが可能となり,Ag安定化層を必要としない安価な新規REBCO-CCの製造が期待できる.これまで我々はNbをドープしたTiO2に着目し,PLD法を用いてin-situでNb–TiO2薄膜を作製し,その導電性について検討してきた.本研究では,透明導電膜の分野で高い電気伝導性が得られているex-situ法でNb–TiO2薄膜を作製し,RE123層の成膜環境への耐性を評価した.