RF-Sputter法によるRe-123系線材用CeO2中間層の開発 (5) − 量産検討とIBAD-MgO基板上の成膜検討の進捗状況 −

Development of CeO2 buffer layer for coated conductors by RF-Sputtering(5)


中西 達尚, 小泉 勉, 木村 一成, 中村 達徳, 広長 隆介, 青木 裕治, 青木 伸夫, 長谷川 隆代 (昭和電線); 飯島 康裕, 齊藤 隆 (フジクラ); 吉積 正晃, 和泉 輝郎 (SRL)


Abstract:長尺線材の低コスト化を目指し、IBAD-GZO/Hastelloy上のCeO2のRF-Sputter法に
よる長尺成膜の量産化とIBAD-MgO/Hastelloy上のCeO2成膜の長尺化検討を行っている。詳細については、当日報告する。