DCマグネトロンスパッタリング法を用いたBi2Sr2Ca2Cu3O10薄膜の作製

Fabrication of Bi2Sr2Ca2Cu3O10 films by DC magnetron sputtering


吉村 卓哉, 土井 俊哉, 和泉 竹衛, 白樂 善則 (鹿児島大); 松本 明善, 北口 仁 (NIMS )


Abstract: Powder-in-tube法により線材が作製可能であることから、長尺のBi2223線材の開発は他の高温超伝導体に比べて進んでいる。しかしながら、Bi2223線材のJcは数万A/cm2程度と低い値に留まっており、真に実用線材となるためには更なる特性向上が求められている。我々はBi2223が持つ可能性を調べるため、良質な薄膜の作製に取り組んでいる。今回、DCマグネトロンスパッタリング法を用いてPbフリーのBi2223薄膜を作製し、Tc=72Kのほぼ単相のBi2223薄膜を得たので報告する。