エアロゾルデポジション法で作製したMgB2薄膜の特性

Properties of MgB2 films fabricated with aerosol deposition method


谷口 修一朗, 神宝 陽太郎, 中山 千秋, 腰塚 直己, 村上 雅人 (芝浦工大); 金 讃中 (韓国原子力研究所); 廣瀬 伸吾, 明渡 純 (産総研)


Abstract:エアロゾルデポジション法(ADM)は、原料微粒子を室温で固体状態のまま、基板に衝突させて緻密膜を形成する手法であり、従来の成膜法のような高温熱処理を必要としない。そのため、微粒子材料の特性を保った成膜が可能である。本研究では、微細化したMgB2粉末を用いて、ADMによりMgB2薄膜を作製した。また、成膜速度、粉末サイズ等の作製条件を変化させ、特性に及ぼす影響について調査した。微細構造、X線解析分析、臨界温度Tc、臨界電流密度Jcなどの試料評価結果を報告する。