Bi2223バリア線材の交流垂直磁界下でのフィラメント間結合特性の評価

Interfilamentary coupling properties of Bi2223 tapes with interfilamentary resistive barriers in AC perpendicular magnetic field


稲田 亮史, 奥村 康裕, 太田 昭男 (豊橋技科大); 李 成山, 張 平祥 (西北有色金属研究院)


Abstract:我々は,フィラメント間に酸化物を高抵抗バリアとして導入した低交流損失Bi2223線材の開発に関する研究を進めている。交流磁界下での損失低減効果を得るためには,結合周波数fc(結合痔定数τcの逆数に比例)を使用周波数に対して十分に高くすることが必須条件の一つとなる。
本研究では,fc(>50 Hz)の異なる複数のBi2223バリア線材について,交流垂直磁界下での損失特性を系統的に評価した。実験結果に基づき,fcの大小が交流垂直磁界下での中心到達磁界(換言すればヒステリシス損失)の周波数依存性,および結合損失の全損失中に占める寄与に及ぼす影響を検討した。